低溫恒溫水槽的精度和微處理技術(shù)
低溫恒溫水槽廣泛應(yīng)用于石油、華工、冶金、醫(yī)藥、生化、物性測試及化學(xué)分析等研究部門、高等院校、工廠實驗室及計量質(zhì)檢部門,為用戶工作提供一個冷熱受控,溫度均勻的場源。
低溫恒溫水槽是采用微處理技術(shù)結(jié)合PID 控制方式形成的高精度恒溫器與壓縮機制冷系統(tǒng),結(jié)合而成的低溫恒溫水槽,而內(nèi)置的制冷和加熱系統(tǒng)可滿足用戶的不同需求。本機采用微電腦控溫,控溫精度高,在±0.1℃之內(nèi),這是一般控溫系統(tǒng)無法達(dá)到的指標(biāo)。由于增加了內(nèi)置循環(huán)系統(tǒng),使箱內(nèi)的液體溫度更趨均勻,性能穩(wěn)定可靠、操作簡便。工作區(qū)可采用 500ml的燒杯,也可以根據(jù)需要使用更大的樣品容器,也可直接在水浴上測定粘度。
高精度低溫恒溫水槽和普通恒溫槽的區(qū)別在于對應(yīng)的型號尺寸沒有改變,但是溫度感應(yīng)器和顯示器精度均增高了。當(dāng)?shù)蜏睾銣厮奂訜釡囟瘸^100度時,使用的介質(zhì)是甲基硅油,zui高溫可達(dá)到300度。
低溫恒溫水槽中換熱設(shè)備設(shè)計的主要是根據(jù)設(shè)計的任務(wù)結(jié)合各類低溫恒溫水槽換熱設(shè)備的結(jié)構(gòu)和特點。選定設(shè)備形式必要時可同時選取幾種形式進(jìn)行初步結(jié)構(gòu)設(shè)計,通過技術(shù)經(jīng)濟等綜合比較確定zui終形式。也可根據(jù)選定的初步結(jié)構(gòu)形式以及其他參數(shù),低溫恒溫水槽進(jìn)行傳熱計算、阻力計算以及強度計算。計算結(jié)果應(yīng)使結(jié)構(gòu)設(shè)計的傳熱面積與傳熱計算的傳熱面積相比有10%~20%的裕量,而計算壓陣小于允許壓降。在進(jìn)行強度計算時,要特別注意所用材料的溫度特性。許多材料的特性在低溫時與常溫時相差很大,此外設(shè)計時還應(yīng)遵循壓力容器的設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)范。校核計算。還需進(jìn)行精心的機械設(shè)計,低溫恒溫水槽包括零部件尺寸的確定和強度鉸核、溫差腕力計算、熱補償力案確定等。
低溫恒溫水槽中換熱設(shè)備設(shè)計的前期準(zhǔn)備需要地理解設(shè)低溫恒溫水槽計任務(wù)書對設(shè)計的要求,掌握工藝生產(chǎn)的某些條件如工作溫度、允許溫差壓力、允許壓降、工作流體的物理和化學(xué)性質(zhì)等。除此之外還應(yīng)包括設(shè)備熱負(fù)荷、低溫恒溫水槽可以提供的材料、加工條件等方面。這些資料是選型的依據(jù)、同時也是熱力計算的前提。對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻,單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻,激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。其他產(chǎn)業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻,等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。